Magic Leap专利提出制造高性能AR/VR波导的纳米压印液滴控制方法
“按需滴注”液滴图案优化
（映维网Nweon 2025年12月04日）传统纳米压印光刻技术因流体分配不均易产生气隙缺陷和残留层厚度（RLT）不均匀，导致光学性能下降、图像出现伪影。在一份专利申请中，Magic Leap提出了创新的“按需滴注”液滴图案优化技术和连续渐变设计，以精准控制光刻胶的分配与流动，从而实现高保真纳米结构的制造，同时显著提升光学器件的图像均匀性、对比度和效率，并降低生产成本。
在一个实施例中，采用按需滴落、控制体积的分配技术，将流体分配到基板，并精确控制所分配流体滴的体积及其在基板上的分配位置。然后可以对分配的流体进行压印，以创建适用于AR系统、MR系统和/或其他适用光学应用的图案化光学器件。
所述流体可以分配到作为波导的光学透明基板上，然后使用模板对分配的流体进行压印，随后固化，从而在透明基板的一个或多个表面上创建所需的纳米特征（例如衍射光栅）。
总厚度变化（TTV）指的是在基板尺寸上进行的一系列点测量中，基板厚度的最大值与最小值之差。对于已创建衍射光栅的图案化表面基板，TTV指的是通过忽略图案特征对厚度的贡献而评估的近似值。例如，图案化基板上的典型特征的厚度（或高度）可能在约10纳米（nm）至150纳米的范围内。厚度由模板的沟槽深度决定，沟槽深度可能会有10%的变化。未图案化基板的TTV通常超过100纳米，有时甚至达到微米量级。
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