Meta专利提出通过氢氮辅助化剂蚀刻AR高折射率光栅的方法
蚀刻高折射率光栅
（映维网 2021年11月18日）对于AR领域，光学透明系统可以采用基于波导的光学显示器。其中，投影图像的光可以耦入波导，在波导内传播，并在不同位置耦出波导。在一个实现中，可以使用诸如倾斜表面浮雕光栅这样的衍射光学元件来将投影图像的光耦入或耦出波导。但是，以理想速度制造具有合适轮廓的倾斜表面浮雕光栅并不容易。
在名为“Hydrogen/nitrogen doping and chemically assisted etching of high refractive index gratings”的专利申请中，Meta描述了一种通过氢/氮辅助化剂来蚀刻高折射率光栅的方法。
这份发明主要描述了制造倾斜结构的技术。更具体地说，其涉及在具有高折射率（例如，n>约2.3）的材料上蚀刻倾斜结构的技术，例如TiO.sub.x、LiNbO.sub.3、HfO.sub.x。TiSiO.sub.x、SiC、ZnSe、InGaAs和GaP等。另外，化学辅助反应离子束蚀刻（chemically assisted reactive ion beam etch；CARIBE）技术可用于蚀刻倾斜结构，例如在具有超高折射率的材料中蚀刻高对称倾斜结构或倾斜结构。
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