Meta研究：氯溴碘卤族元素有望成为高折射率光学方案材料
具有5.97至13.90高原子折射率的卤族元素（如氯、溴和碘）能够成为开发高折射率聚合物的有用成分
（映维网 2021年11月16日）高折射率聚合物（HRIP）是一类非常重要的材料，它们在光电子器件中拥有潜在的应用，如显示器的抗反射元件、发光二极管的封装材料、光学传感器和光刻技术。典型的商用聚合物具有1.3–1.7范围内的折射率，要在保持高光学透明度的同时获得折射率大于1.8的聚合物是一个重要的挑战。
罗切斯特大学和Meta组成的团队认为，由于具备机械灵活性，轻便，可处理性，可染性，低成本和抗冲击性，聚合物要优于无机物，而具有5.97至13.90高原子折射率的卤族元素（如氯、溴和碘）能够成为开发高折射率聚合物的有用成分。
在研究中，所述团队探索了一系列的卤族元素配方，以挖掘最为合适的高折射率聚合物方案。
通过化学气相沉积，研究人员制备了一系列具有高折射率（n=1.7–2.0），并且在可见光和红外光学范围内可以实现优异透明性的卤化聚合物薄膜。
化学气相沉积技术是一种用途广泛且精密的技术，已用于制备多种用途的聚合物涂层和薄膜。在研究中，团队使用化学气相沉积制备了厚度为200nm的聚合物（P4VP）薄膜，然后用卤族蒸汽处理以形成具有高折射率的卤族聚合物薄膜。
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