韩国研究团队开发量子点直接光学光刻技术
预计将极大加速AR和VR等下一代显示器的商业化进程
（映维网Nweon 2025年09月24日）韩国大邱庆北科学技术院团队开发出无需光刻胶、仅用光就能以超高分辨率制备量子点图案的直接光学光刻技术（DOL），并据此提出了制造高性能QLED所需交联剂的选择标准。这项成果是可广泛应用于Micro QLED、超高分辨率显示器和下一代图像传感器等光电子器件的核心基础技术，预计将极大加速AR和VR等下一代显示器的商业化进程。
量子点是直径仅为头发丝十万分之一的超精密半导体颗粒，其发光颜色可根据尺寸自由调节，是具有卓越色彩再现能力的下一代显示材料。但传统光刻胶图案化工艺存在流程复杂、发光性能下降和图案变形等局限性，喷墨打印和微接触打印技术也存在分辨率和精度方面的限制。
大邱庆北科学技术院团队引入了一种对紫外线具有响应的二氮丙啶交联剂TDBA。所述物质同时具有能与量子点表面直接结合的羧酸官能团和对光响应的二氮丙啶结构，单次光照即可与量子点形成化学键合从而生成超精细图案。通过这种方法，团队成功实现了约2微米（6350 DPI）的超高分辨率图案化，并同时确保了卓越的精度和稳定性。
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