Meta XR专利针对薄膜镀膜技术探索沉积低折射率层解决方案
抗反射涂层的制备
（映维网Nweon 2024年11月12日）典型的薄膜镀膜技术是将具有高折射率和低折射率的两层或两层以上交替的材料结合在一起。为了设计的目的，希望两种材料的折射率有很大的差别。为了避免在宽入射角处具有较高的反射率，最上层的介电层具有较低的折射率是可取的。然而，沉积低折射率层是一项具有挑战性的任务，特别是考虑到与下面其他材料层的兼容性，或者当需要在顶部密封层以减少磨损效应、化学污染等时。
针对这个问题，Meta在一份专利申请中提出了一种在电介质堆栈之上沉积氟化镁多孔层的机制，其可以进一步降低折射率并减轻氟化镁产生的拉伸应力，从而允许形成更厚的层。在一个实施例中，缓冲二氧化硅（SiO2）层可设置在两个或多个块状或多孔氟化镁层之间，从而根据需要增大最顶层的厚度并对其折射率进行分级。
图2A-2C示出抗反射涂层200A和200B和反射率曲线210-1和210-2的横截面视图，其用于具有顶部折射率降低的介电层的抗反射介质堆栈。
在衬底212上形成涂层200。在这方面，衬底212可以包括弯曲形状，或凸或凹表面，或具有锐角的表面。另外，衬底212可以包括玻璃、塑料或任何其他用于制造光学元件的透明材料。
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