韩国研发双层干法转印技术，有望为AR/VR实现更逼真高清视图

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双层干法转印技术

（映维网Nweon 2024年08月27日）来自韩国的一个研究小组成功研发了一种双层干法转印技术，可以同时将发光层和电子转移层转移到衬底，并有望帮助AR/VR实现更逼真的视图，从而大大增强沉浸式体验。

量子点纳米粒子因其高色纯度和高再现性而成为新一代显示发光材料。然而，尽管将量子点油墨涂在衬底的传统干法转移印能够实现超高清像素，但由于发光效率低于5%，它们尚未用于实际生产。

所以，韩国大邱庆北科学技术院和蔚山科学技术院等机构的团队开发了一种即便在低电流下都能产生明亮光的干法转印技术。这使得高分辨率像素图案技术成为可能，从而帮助创造出超高清和高效率的发光器件。

据介绍，新型高密度双层薄膜通过降低界面电阻，可以具有高达23.3%的EQE。这与量子点发光器件的最大理论效率相似。

研究人员同时利用新薄膜制作了25526 PPI的超高清量子点图案，并通过重复印刷实现了8厘米× 8厘米的面积，确认了批量生产的可行性。

团队表示：“我们利用双层干法转印技术减少界面阻力，促进电子注入，从而制造出了超高清和高效率的发光器件。使用所述技术制造的双层薄膜发光器件的EQE高达23.3%，与量子点发光器件的最大理论效率相似，这是一个非常重要的结果。”

相关论文：Highly efficient printed quantum dot light-emitting diodes through ultrahigh-definition double-layer transfer printing

他们补充道：“我们很高兴通过这项研究开发出一种可以在VR和AR中实现更高分辨率屏幕的技术。通过进一步的研究，我们将努力将具有高色彩再现性和色彩纯度的量子点广泛应用于智能可穿戴设备。”