德国在AR显示器CMOS Micro-OLED实现45％透明度
从20%提高至45%
（映维网Nweon 2024年08月09日）德国弗劳恩霍夫光子微系统研究所正积极为AR开发半透明MicroOLED显示器。之前，团队已经实现了透明度为20%的设备。
但现在，他们再进一步，首次在CMOS Micro OLED显示器中实现了45%的透明度。
由于更高的PPD、高亮度、高分辨率、高填充系数、更高的效率和更长的寿命能力，硅基Micro OLED十分适合作为VR、AR和MR应用中的图像生成器。但因为硅基技术，其固有的透明度不足，给透视AR设备的开发带来了挑战。涉及复杂光学系统的传统解决方案增加了重量、尺寸并损害了光学效率。
凭借多年在微型显示器设计方面的专业知识，德国弗劳恩霍夫光子微系统研究所的研究人员设计了一种创新方法。通过将较薄的电路层和微光学直接集成到芯片之上，透明微显示器可以兼作光学组合器元件。这种集成优化了光学系统，显著减小了尺寸并提高了效率。
团队介绍道：“我们的创新方法利用现代CMOS工艺在绝缘体的硅晶片上实现了超薄电路层。借助特定的IC设计和适当的工艺流程，它可以转移到玻璃晶片上，从而生产半透明微型显示器。”
接下来，他们将继续致力于提高透明度，并准备好进行针对客户和应用的开发，将这项新技术推向市场。
