Meta XR专利提出可用作光波导的纳米光子止裂结构

小编刘卫华 | 分类：专利 | 发布日期 2023年10月10日

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止裂结构

（映维网Nweon 2023年10月10日）止裂结构是沿模具外围存在的关键结构，它主要用于防止裂纹扩展到模具中。这种结构的存在可以为内部的敏感结构提供急需的保护。传统设计的缺点是它占用了宝贵的空间，例如在模具的每侧占据约35微米至100微米。所以，当半导体芯片需要小形状参数时，传统的止裂结构就会显得相对较大和笨重。

传统的止裂方法是采用光刻或激光超声技术在基板嵌入抗裂导电和聚合物层。在名为“Nanophotonic crack stop design”的专利申请，Meta提出用于半导体止裂设计的方法可以使用夹在低折射率材料中的高折射率材料，而这种结构可以用作光波导。在一个示例中，半导体芯片可以包括内部或外部止裂结构结构，以及沿着半导体芯片的周长引导光的波导。