Kinko携手Beneq C2R技术，实现高性能AR波导规模化生产
实现高性能AR波导规模化生产
（映维网Nweon 2026年02月21日）原始设计制造商Kinko Optical日前宣布，选择采用Beneq的C2R等离子体增强空间原子层沉积（ALD）系统，以帮助合作伙伴大规模生产用于衍射波导的高折射率、低损耗间隙填充光学镀膜。
XR行业正在迅速发展，其增长动力源于消费者对沉浸式体验的需求，例如XR眼镜等消费电子产品。近年来，全球领先的科技公司和原始设备制造商纷纷在该领域投入巨资并进行创新。XR眼镜的核心是AR波导。为了获得最佳效果，先进的表面浮雕光栅（SRG+）和纳米压印光刻（NIL）是当前的主流技术平台，能够满足消费级应用在性能、生产和成本方面的要求。
然而，这些技术所创建的复杂3D纳米结构对传统的镀膜方法提出了重大挑战，传统方法往往无法达到所需的性能。因此，先进的光学镀膜对于提高效率、亮度和耐用性至关重要，同时还能实现可扩展的高性能制造。Beneq的C2R技术满足了这些需求，能够提供卓越性能，并助力制造商达到新一代AR设备的严格标准。
C2R采用创新的旋转式空间原子层沉积设计，可将前驱体在空间中分离，从而实现比传统原子层沉积快100倍的沉积速率（高达2000 nm/h），同时保持卓越的均匀性和精度。它支持多种高折射率材料，包括Al₂O₃、TiO₂、Ta₂O₅、HfO₂和多层堆叠结构，其可调折射率最高可达约2.61（TiO₂在448 nm波长处），光学损耗低至约3 dB/cm。
其他主要优势包括：低温加工（低至100°C），可兼容聚合物基底；可对复杂光栅进行共形间隙填充；以及零应力涂层，应力控制范围为1000 MPa至-200 MPa。原位宽带监测可确保实时优化，从而能够在不影响质量的前提下制造更厚的多层结构。这些能力与光学创新领域的节能、可持续制造和合规性等行业趋势高度契合。
Kinko Optical表示：“我们很早就意识到原子层沉积技术在卓越的镀膜质量、优异的保形性，以及能够提供先进光学器件所需的高折射率、低损耗材料方面的巨大潜力。借助Beneq的C2R技术，我们现在能够实现性能与品质的完美平衡，将无与伦比的沉积速度与低温工艺相结合，真正实现大规模生产，同时保持复杂结构的精度。这使我们能够加速AR波导的商业化进程，并为下一代XR眼镜提供沉浸式、无缝体验。”
